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中微公司申请半导体零部件的清洗方法专利能够去除通孔内的污染物且不DB真人·(中国)官方网站易对通孔内侧壁造成损伤

时间:2024-07-03 03:13:10 作者:小编 点击:

  DB真人金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“半导体零部件的清洗方法“,公开号CN3.2,申请日期为2022年12月。

  专利摘要显示,本发明提供一种对半导体零部件的清洗方法,所述半导体零部件具有相对的第一表面和第二表面,所述半导体零部件还开有多个连通第一表面和第二表面的通孔,所述清洗方法包括步骤:提供化学流体抛光液,所述化学流体抛光液中包含化学腐蚀剂和抛光磨料;使化学流体抛光液穿过所述通孔并从第二表面向第一表面流动,所述化学流体抛光液在流经所述通孔的过程中,对通孔内侧壁进行清洗处理。所述清洗方法能够去除所述通孔内的污染物,且不易对通孔内侧壁造成损伤。


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